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如何能评价光刻胶的好坏？

2024年07月05日 10:05 浏览：72 来源：小萍子

一款光刻胶主要考虑如下特性：分辨率，对比度，敏感度，粘度，粘附性，抗蚀性，热稳定性，纯度等。

分辨率

指光刻胶能够制造出的最小特征尺寸。我们常说的7nm，28nm就是指特征尺寸。技术节点的缩小要求光刻胶必须具有更高的分辨率。低分辨率的光刻胶是无法做出线宽极小的芯片。

对比度

表现的是光刻胶侧壁的坡度，陡直度。高对

比度则表示光刻图案边缘更加锐利，线条更清晰，陡直度越接近90°。

敏感度

指的是形成可接受的图形所需的最小曝光剂量，表示为毫焦耳/平方厘米（mJ/cm²）。敏感度高的光刻胶需要的曝光能量较低，相应地，其曝光时间更短。在大规模生产中，可以大大节省时间，降低工艺成本。

粘度是衡量光刻胶流动性的物理性质，直接影响匀胶的均匀性和厚度。单位是cp。高粘度的光刻胶可以匀的更厚。

指光刻胶在晶圆上的附着力。粘附性好，光刻胶在晶圆上不会出现脱落情况。

5，抗蚀性

指的是光刻胶在刻蚀过程中抵抗化学侵蚀的能力。如在蚀刻，离子注入等工序都要考虑光刻胶的抗蚀性，抗蚀性不好，易发生脱落或图形偏移，变形，影响工艺结果。

6，热稳定性

光刻胶在高温处理过程中保持其物理和化学性质不变的能力。在很多工艺中，晶圆的温度会上升，如果热稳定性不好，容易发生光刻胶的变形。

7，纯度

指的是光刻胶的杂质含量。分辨率越高的光刻胶，要求的纯度越高，甚至达到ppb级别。