冶金级硅提纯
石英砂(SiO₂)与焦炭在2000℃电弧炉中冶炼,去除氧元素:SiO₂ + 2C → Si + 2CO↑
得到纯度98%的金属硅(如左图灰色颗粒),但芯片级硅需纯度达99.9999%(十亿分之一杂质!)
电子级硅的诞生
将金属硅转化为三氯硅烷(SiHCl₃)气体,通过分馏塔精密过滤
在1100℃反应器中沉积:2SiHCl₃ → Si + 2HCl + SiCl₄
生长出如右图所示的多晶硅锭(Polycrystalline Silicon),纯度堪比“银河系最纯净物质”
要制造芯片,必须将杂乱的多晶硅转化为原子整齐排列的单晶硅,两大神技登场:
切克劳斯基法(CZ法)—— 主流工艺
熔炼:多晶硅在石英坩埚中1420℃熔化(可装300kg硅料)
提拉:旋转的籽晶(Seed Crystal) 浸入熔融硅;以0.5-1.5mm/分钟速度缓缓拉升,硅原子沿籽晶结构有序生长
成型:形成直径300mm、长2米、重300kg的硅单晶锭
区熔法(FZ法)—— 极致纯净
局部熔融:多晶硅棒垂直固定,底部用RF线圈产生环状高温区
晶体生长:熔区从底部向顶部移动,杂质被推向顶端;无需坩埚避免污染,纯度可达99.9999999%
切割:金刚石线锯将硅锭切成0.7mm薄片
抛光:表面粗糙度控制在0.1纳米(相当于原子级镜面)
刻槽:边缘切割精准定位槽,后续芯片对齐误差为纳米级别