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芯片制造:硅片的诞生
2025年08月06日 09:43   浏览:466   来源:小萍子

当你滑动手机屏幕时,掌心托起的是一个由百亿晶体管构建的微观宇宙。而承载这一切的基石,竟源自海滩常见的砂石

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第一步:砂石的星辰蜕变

  1. 冶金级硅提纯

    石英砂(SiO₂)与焦炭在2000℃电弧炉中冶炼,去除氧元素:
    SiO₂ + 2C → Si + 2CO↑

    得到纯度98%的金属硅(如左图灰色颗粒),但芯片级硅需纯度达99.9999%(十亿分之一杂质!)

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  2. 电子级硅的诞生

    将金属硅转化为三氯硅烷(SiHCl₃)气体,通过分馏塔精密过滤

    在1100℃反应器中沉积:
    2SiHCl₃ → Si + 2HCl + SiCl₄

    生长出如右图所示的多晶硅锭(Polycrystalline Silicon),纯度堪比“银河系最纯净物质”

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第二步:单晶硅锻造

要制造芯片,必须将杂乱的多晶硅转化为原子整齐排列的单晶硅,两大神技登场:

切克劳斯基法(CZ法)—— 主流工艺

  1. 熔炼:多晶硅在石英坩埚中1420℃熔化(可装300kg硅料)

  2. 提拉旋转的籽晶(Seed Crystal) 浸入熔融硅;以0.5-1.5mm/分钟速度缓缓拉升,硅原子沿籽晶结构有序生长

  3. 成型:形成直径300mm、长2米、重300kg的硅单晶锭

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区熔法(FZ法)—— 极致纯净

  1. 局部熔融:多晶硅棒垂直固定,底部用RF线圈产生环状高温区

  2. 晶体生长熔区从底部向顶部移动,杂质被推向顶端;无需坩埚避免污染,纯度可达99.9999999%

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第三步:晶圆的终极塑形

  1. 切割金刚石线锯将硅锭切成0.7mm薄片

  2. 抛光表面粗糙度控制在0.1纳米(相当于原子级镜面)

  3. 刻槽边缘切割精准定位槽,后续芯片对齐误差为纳米级别

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