IC设计
设计公司(Design House)用软件绘制电路图,完成数十亿晶体管的布局
Tape Out:将最终设计数据交付给掩模厂
掩模制造
光刻机在石英板上刻蚀电路图案(Photomask)
一套先进芯片需80-120块掩模版,每块造价超5万美元
原料准备
硅提纯:将砂石熔炼成99.9999%纯度的 硅锭(Ingot)
晶圆切片:将硅锭切割成0.7mm厚度的圆片(Wafer),主流尺寸300mm(12英寸)
核心制造循环(重复40-100次)
氧化/沉积:
高温氧化生成绝缘层(Oxidation)
气相沉积薄膜(CVD/PVD)
光刻-芯片的“灵魂步骤”:
涂光刻胶(Photoresist) → 掩模对准曝光(Litho) → 显影(Development)
图形刻蚀:
用等离子体蚀刻暴露区域(Etch)
离子注入改变半导体特性(Ion Implantation)
清洗去胶:
化学液清除残留光刻胶(Photoresist Removal)
超纯水清洗(Cleaning)
晶圆测试(CP Test):
探针台接触芯片引脚,筛选失效电路(WAT测试)
不良芯片标记为墨点(Ink Marking)
切割封装:
贴片(Die Bonding)引线键合(Wire Bonding)塑封成型(Package)
激光切割晶圆成独立芯片(Dicing)封装厂进行:
终极考验:
FT测试:模拟实际工作环境
烧机测试(Burn-in):高温高压老化筛选早期故障